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헐셀을 대신한 새로운 셀의 제안
New Cell as a substitute for Hull Cell

등록 : 2010.01.07 ⋅ 45회 인용

출처 : 금속표면기술, 29권 3호 1978년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.02
헐셀은 음극이 양극에 비스듬하게 배열된 실험용 도금셀로, 광범위한 전류밀도의 도금은 단 한번의 전착만으로 테스트가 가능하다. 따라서이 셀은 도금상태 결정, 도금액의 구성 및 도금 욕제어에 널리 사용된다. 그러나 음극의 임의 지점에서 전류밀도를 이론적으로 정확하게 계산하기는 어렵다. 따라서 일반적으로 몇 가지...
  • 수절제 · Water Sepatation 수절제는 마지막 수세 과정에서 도금표면에 묻어있는 수분을 빠른 시간내에 제거하여, 건조에 의한 얼룩을 방지하기 위한 목적으로 사용된다. 제...
  • DMF 를 이용한 합금석출의 전류효율에 미치는 전해조건의 영향, 합금피막의 구조에 관하여 조서
  • 중요 3가크롬 화합물 ^ Trivalent Chrome Salt 삭산크롬 Cr(CH3COO)3 = 229.13 g/㏖ 6수화물은 청자색 침형 결정체로 수용액은 담록색을 띤다. 물에 녹으며 220도에 CrO(OH)...
  • 장식용 니켈-크롬도금의 부식거동이, 광택니켈도금층중의 유황함유량에 따라 영향받는것을 규명
  • 전석에 의한 신물질창조라는 관점에서 원자스케일의 인공적구조억제의 실현화에 관하여, 기술적견지에서 최근의 연구성과의 한 예를 소개하여, 전석의 새로운 가능성과 금후...