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검색글 Michinari Sone 3건
2가철을 착화제로 사용한 무전해구리 도금석출
Electroless Copper Deposition using Fe(II) Complex as a Reducing Agent

등록 2009.06.05 ⋅ 47회 인용

출처 표면기술, 53권 8호 2002년, 영어 1 쪽

분류 연구, 해설

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2023.07.23
반도체 장치의 구리 Cu 이중 다마신은 현재 PVD 및 CVD 와 같은 건식공정으로 형성된다. 전기도금과 무전해도금과 같은 습식공정은 대조적으로 구리배선 형성에 사용된다. 특히 무전해 도금 방법은 미세한 배선을 얻기 위한 효과적인 방법으로 알려져 있지만, 1 mol 구리도금에서 1 mol 수소가스가 생성되고 보이드가 발생한...
  • 비시안화 산성은 Ag 전기도금조에는 가용성 은염, 티오황산염, 중아황산염, 완충액 및 황산염이 포함되어 있다.
  • I.S. Meter 1958년 M. Ya Popereka |1|가 제안한 방법으로, 얇은 금속 스트립의 양면에 도금되는 동안 주어진 예압에 의해 인장을 유지하나, 도금된 응력으로 인해 스트립 ...
  • 변위반응에 의해 도금된 금 Au 의 양이 15 mu.g /cm2 이상이고 무전해금 Au 도금액에 금에 의해 산화되는 환원제와 환원제가 포함된 무전해 금도금 용액이 제공된다. 이는 ...
  • 무전해금 Au 도금욕의 기능과 응용에 관하여 설명
  • 메탄설폰산은 Silver Methansulfonate Silver mesylate CAS No. 2386-52-9 Ag(CH3SO3) = 202.97 g/mol 백색~회백색 결정 분말 유기합성의 촉매로 사용 비시안화은도금욕...