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검색글 Hideo SAWAI 2건
무전해 니켈 텅스텐 인 도금욕의 석출거동
Behavior of Nickel deposition from electroless Ni-W-P plating bath

등록 2010.01.07 ⋅ 38회 인용

출처 금속표면기술, 32권 1호 1981년, 일어 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.09
텅스텐이 공석될때 욕중의 착체 및 석출형태등을 용액의 가시 스펙터클 및 전기화학적 방법으로 검토
  • 새로운 기술을 더욱 발전시키고 도금된 피막의 속성을 즉흥적으로 개선하고 할당 범위를 확장함으로써 실용적이고 이론적으로 매우중요 할수있다.
  • 양극산화처리된 알루미늄선재의 크립특성의 관찰결과 보고서
  • 니켈염 ㆍ Nickel Salt 도금용으로 사용되는 니켈염 NIckel SUlfate [황산니켈] NiSO4·6H2O = 262.84 g/mol Nickel Chloride [염화니켈] NiCl2·6H2O = 237.69 g/mol Nickel ...
  • 첨가제 벤질아세톤을 주 광택제로, Peregal 25 를 캐리어 광택제로, 벤조익산소다를 보조 광택제로 사용하여 조성하였다. 첨가제는 아세트산 염의 아연-니켈-인 Zn-Ni-P 합...
  • 수산화나트륨 (가성소다) ^ Sodium Hydroxide (NaOH) NaOH = 39.997 g/mol 물, 에탄올, 메탄올에 용해 밀도: 2.13 g/cm³ 강알칼리성으로 도금욕 조성ㆍ세척제ㆍ탈지제ㆍpH ...