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검색글 Katsuhiko TASHIRO 14건
무전해 Ni-P 도금막의 노듈의 발생원인
Origins of Sodules in electroless Nickel-Phosphorus Deposition

등록 2010.01.27 ⋅ 42회 인용

출처 표면기술, 47권 4호 1996년, 일어 7 쪽

분류 연구

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기타

無電解Ni-Pめっき膜のノジュールの発生要因

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.15
공업적으로 넓게 이용되고 있는 무전해도금막의 표면에 발생하는 노쥴에 관하여, 소재의 전처리 조건 및 도금 조건과의 관계에 관하여 검토
  • 엔듀리온 · Endurion 인산-주석 피막으로 1949 년 미국 LEA 사의 B.S.Tuttle 과 T. Navoy 가 발명한 방법으로서 종래의 인산 염 처리 후 Me3(PO4)2 + 3SnCl2 = Sn3(PO4)2 + ...
  • 도금피막의 고순도화, 연전성의 증가, 광택도의 증가, 고온경도의 연화온도의 고온화등 원인에 관한 보고
  • 펄스도금의 사용은 주로 관련 도금의 특성의 영향에 미치는 기본적인 지식 부족으로 제한된다. 펄스도금에는 직류보다 더 많은 변수가 관련되어 결과적으로 유익한 효과를 ...
  • 부텐올 · 3-butene-1-ol C4H8O = g/㏖ CAS : 627-27-0 성상 : 무색 액상 순도 : 96 % 로 물에 용해 제약용으로 사용 참고
  • 니켈합금을 하여 그 성질을 개량 또는 자원적, 경제적 이유에서 니켈일부를 보다 저렴한 금속으로 대치한 비용절감은 중요한 의의가 있으며, 이것은 무전해 니켈합금 도금에...