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고비저항 무전해 NiP 피막의 열안정성
Thermal stability of high resistivity NiP thin film resistor formed by means of a electroless deposition

등록 : 2010.01.28 ⋅ 35회 인용

출처 : 표면기술, 48권 4호 1997년, 영어 2 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.26
P 함량이 17at % 이상인 무전해 NiP 피막은 비정질상태로 인해 박막저항기로 사용되는 것으로 잘 알려져 있다. 그러나 약 275 ℃ 에서 결정 상태가 비정질에서 결정으로 변하기 때문에 더 높은 열 조건을 위한 박막저항기에는 적용할수 없다. 이러한 상황에서 열변화에 대해 보다 열적으로 안정된 피막을 위해 NiWP, NiMoP 및...

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