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크롬도금액의 전해투석에 의한 욕농도의 조정에 관하여
Regulating of Bath Concentration by Electrodialysis of Chromium Plating Solution

등록 2014.08.21 ⋅ 25회 인용

출처 알루미늄표면처리연구회지, 138호 1989년, 일어 7 쪽

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.09
크롬 Cr+3이 증가한 포름산욕에 관하여 이온교환막을 이용한 전해투석할때 크롬산 CrO3 농도나 Cr+3 농도가 어떻게 변하는지에 관한 보고
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  • ABS
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  • • Excellent for barrel plating with high temperature stability • Can be operated with air or cathode movement • Stable over a wide metal ion concentration and te...
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  • 0.3 M 브롬화카드뮴 CdBr2 4H2O, 0.1 M HC1, 0.4 M H3BO3 및 2.0 M KBr (Bath I) 를 포함하는 산성 브로마이드 용액에서 카드뮴의 전기도금에 대한 작업이 검토 되었으며 5g...