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무전해구리 도금에 대한 첨가제와 착화 첨가제 효과의 전기 화학 연구
An Electrochemical Study of the Effects of Chelating Agents and Additives on Electroless Copper Plating

등록 : 2011.08.28 ⋅ 64회 인용

출처 : ELECTROCHEMISTRY, 10권 1호 2004년, 중어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

络合剂和添加剂对化学镀铜影响的电化学研究

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.07
무전해구리 도금용 전해액에 킬레이트제 또는 첨가제로 에틸렌디아민 테트라아세트산 이나트륨염 (Na2EDTA), 트리에탄올아민 (TEA), 2,2'- 디피리딘을 사용 하였고 환원제로 포름알데하이드 (HCHO) 를 사용 하였다. 선형 스위프 전압전류법을 적용하여 편광거동을 분석했다. 2,2'-dipyridine 의 첨가에 의해 증가된 포름알데...
  • 납땜 조인트의 납 Pb, 특히 반도체 (SC) 부품 핀마무리에 납에 초점을 맞추고 적절한 대체품을 찾는데 직면한 중대한 과제에 중점을 두었다.
  • 이 작업은 철분말의 무전해니켈 도금의 기술적 타당성을 보여주었다. 도금된 분말은 높은수준의 균질성을 나타내며 소결된 콤팩트는 우수한 기계적 특성을 가지고 있다. 분...
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