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Wet Electro/Electroless Plating Process Study Note

등록 : 2008.07.30 ⋅ 3213회 인용

출처 : Pstation Data Box, 2019, NA

분류 : 기타

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2024.03.25
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황...
  • 아연치환법, 이중 아연치환법, 니켈치환법, 직접법, 진공증착법 등에 의한 , 밀착력의 비교와 도금막간의 인장강도를 측정한 보고서
  • 최근 습식표면처리 공정에서 문제시되고 있는 폐수공해문제 등울 진공공정으로 완전히 해결할 수 있을 뿐만 아니라 새로운 기능성 피막을 창출함으로써 새로운 첨단 기술분...
  • 서독 데구사가 개발한 산성 고속 금도금욕 (오루나 536,537) 는 기존의 시설을 이용하여도 그 석출속도가 최고 1.0 μm/min, 특히 배럴도금에 사용하여 1.0 μm/4min 의 ...
  • 페놀설폰산 ^ Phenol Sulfonic Acid ^ 4-hydroxybenzensulfonic acid CAS 98-67-9 C6H6O4S = 174.17 g/㏖ (C 41.38%, H 3.47%, O 36.74%, S 18.41%) [주석첨가제] 참고 [PSA...
  • Kale Kilit Factory 의 최상의 작동변수를 결정하기 위해 광택제 및 운반제가 사용되었다. 실험에 사용된 광택제 및 운반제의 구성이이 텍스트에 포함되어 있다. 또한 [[니...