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검색글 Yuichi TAKADA 1건
ULSI 배선상의 무전해니켈 도금에 의한 베리어 메탈의 형성
Formation of Barrier Metal Using Electroless Nickel Deposition on ULSI Wiring

등록 : 2014.11.17 ⋅ 10회 인용

출처 : 일렉트로닉스실장학회지, 4권 4호 2001년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

ULSI 配線上への無電解ニッケルめっきによるバリアメタルの形成

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.11
현재 베리어층으로 사용되고 있는 질화규소 SiN 막의 대체로, 무전해니켈 합금도금을 이용한 50 nm 정도의 피막을 독립화한 구리의 패턴위에 성막하여, 소위 캡메탈 형성에 관하여 검토
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  • 디폴라이지드 니켈 ^ Depolarized Nickel Anode [전기니켈]을 고주파 유도로에서 용해하고 산화니켈을 첨가하여, 압연 가공한 [니켈양극]으로 산소 함유량을 0.05~0.2 % 정...
  • 폐수처리에 관한 트러불중에, 직간접적 수처리에 영향사례를 트러블별로 소개
  • 원관내란류의 라그랑주 특성에 관한 일련의 연구를 해왔다. 트레사 로서 수소기포와 폴리스티렌 입자를 이용하지만, 전자는 부력, 후자는 밝기면에서 측정상의 제약이 생겨 ...
  • 차아인산나트륨 ^ Sodium Hypophosphite [차아인산소다] 참고 [무전해니켈도금|무전해 니켈도금] [환원제]