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검색글 Koichi FUJITA 1건
TOF-SIMS 에 의한 도금막중에 혼입된 도금첨가제의 거동 해명
Research on behavior of an electro-plating additive in electro-plated films by TOF-SIMS

등록 : 2008.08.12 ⋅ 21회 인용

출처 : 표면기술, 59권 2호 2008년, 일어 7 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2015.01.16
TOF-SIMS 와 AES 의 내부방향분석과 STEM 관찰, STEM/EDS 분석에 의한 도금막의 층구조, 농도변화를 밝히는 연구