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검색글 P. BalaRamesh 7건
안정제로서 티오우레아와 함께 메탄 설폰산 구리욕에 포함된 사카로스를 사용한 무전해 구리 석출
Electroless Copper Deposition Using Saccharose Containing Copper Methane Sulphonate Bath with Thiourea as Stabilizer

등록 2015.04.16 ⋅ 63회 인용

출처 Chem. Scie. Tran., 3권 3호 2014년, 영어 7 쪽

분류 연구

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Chemical Science Transactions

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.08
무전해구리도금은 집적회로 (IC) 상호연결, MEMS (micro electro mechanical systems) 장치 및 인쇄회로 기판 (PCB) 의 제조에 사용된다. 무전해도금을 위한 화학적 도금욕의 장기간 사용을 충족시키기 위해, 구리 Cu 도금을 위한 화학적 도금욕을 제조하기 위해 친환경 구리- 메탄설폰산 (CuMS) 가 사...
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