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검색글 Satoshi KWASHIMA 1건
반도체 도금공정에 있어서 트러블과 그 대책 - 무전해 UBM 형성에 있어서 트러블 사례와 그 대책 -
The Difficulties in Plating Process for Semiconductor and their Counter-Measures

등록 2015.07.05 ⋅ 30회 인용

출처 표면기술, 65권 7호 2014년, 일어 3 쪽

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半導体へのめっき工程におけるトラブルとその対策 -無電解UBM形成におけるトラブル事例とその対策-

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2015.07.05
시제품 및 양산과정에 있어서 발생된 불량사례의 하나와 그 대책을 상담자와 QnA로 소개
  • 알루미늄의 양극산화 ^ Aluminium Anode Oxidation 금속 부품 표면에 발생되는 자연산 화막의 두께를 인위적으로 만든 전해 부동태 공정을 말한다. 처리 금속을 전해액 내에...
  • 이온강도를 무시한 단순한 황산구리용액을 이용하여, 분극에서의 용존산소의 영향을 조사하고, 탈산소계의 펄스전해의 전류효율과 전석, 용해결정면에서의 자장의 영향...
  • 최근 도금연구는 용액속의 이온과 전착물의 중성원자가 석출될때까지 전기화학에 의한 도금과학의 이론을 연구하고 있지만, 형성된 막의 결정구조는 결정학이며 고체의 열역...
  • 크로마이징 · Chromizing 확산 [침투도금]법의 하나로 [크롬확산피복|크롬 확산피복] 법이라고도 하며 탄소강, 합금강 및 철강에 많이 이용되는 50 % Cr, 1 % NH4Cl, 49 % A...
  • Clean drinking water cannot be taken for granted everywhere. Even if the water is taken from the central water supply, the quality of the drinking water supplied...