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검색글 Masahiro YANAGISAWA 1건
무전해 석출 공정 구리표면에 있어서 히드라진과 차아인산의 반응의 라만과 DFT 연구
Raman and DFT Study of the Reaction of Hydrazine and Hypophosphite on a Cu Surface in the Electroless Deposition Process

등록 : 2016.03.02 ⋅ 11회 인용

출처 : 전기화학, 81권 9호 2013년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.02
환원제의 산화는 무전해 도금 공정에서 지배적 인 요소다. 이 과정에서 고체-액체 계면 보다 정확한 제어를 위한 환원제 산화반응 메커니즘에 대한 기본 지식을 얻기 위해, 플라즈몬 안테나 강화 라만산란을 사용하여 구리 Cu 표면에 흡착된 환원제의 거동을 연구하였다. 단일 홀이 있는 딤플 어레이 또는 동축 딤플이있는 ...
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  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.
  • 폐욕처리에 필요한 연속도금 방법의 개발을 목적으로한 전기 니켈-인 Ni-P 합금도금에 카티온 교환막을 이용한 방법을 검토
  • 무전해도금 전 SiC fabric의 초음파 분산처리, 분산제의 농도, 도금시간, 여러 도금단계중 초음파 조사 유무의 영향에 대해 살펴 보았으며 주사전자현미경(SEM)을 이용...
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