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저농도 설파민산욕에서의 니켈도금 피막의 특성과 MEMS에의 응용
Properties of Electroplated Nickel Film from Low Concentration Sulfamate Baths and Its Application to MEMS

등록 2016.03.18 ⋅ 43회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 14권 1호 2011년, 일어 8 쪽

분류 연구

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기타

低濃度スルファミン酸浴からのニッケルめっき皮膜の特性とMEMSへの応用

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.17
도체장치 및 MEMS 용 센서는 니켈도금이 많이 이용되고 낮은 응력과 고경도 피막이 요구된다. 이에 적합한 니켈도금은 낮은 내부응력 높은 인장력을 갖는 설파민산니켈도금욕이다. 설파민산 니켈욕을 기본으로 하고, 전류밀도, 욕 pH, 온도, 금속염 농도를 변화시켜 도금피막 물성에 미치는 영향을 조사했다. 그...
  • MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
  • 지금까지 다양한 종류의 흑색크롬 도금욕이 문헌에 보고되었다. 그러나, 도금욕 조성은 현재 실제 실무에서 아직 확립되지 않았다. 이들 도금물의 물리적, 화학적 특성과 착...
  • 철, 니켈, 코발트, 망간 등에서 선택한 금속을 30~150 ppm 함유하여 장식적인 도금에서 외관에 줄무늬, 연무띠 같은 심각한 결점이 없는 3가크롬 전기도금액 조성물을 제공...
  • • 뛰어난 안정성 – 농축액 및 작업 용액에 침전이 없음 • ABS, ABS/PC 등에 사용되는 광범위한 작업 창 및 다목적 공정 • 2K 구성 요소에 도금하기에 적합함 • 랙 금속화 제...
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