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반도체 구리 배선공정에서 표면 전처리가 이후 구리 전해/무전해 전착 박막에 미치는 영향
Effect of Surface Pretreatment on Film Properties Deposited by Electro-/Electroless Deposition in Cu Interconnection
자료 :
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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2017.09.18
표면 산화물이 이후 전해 전착 및 무전해 전착에 미치는 영향을 파악하고, 표면처리 최적화를 통해 산화물의 선택적 제거를 극대화하여 씨앗층의 손상을 최소화함으로써 전착되는 박막의 성질을 향상에 관한 연구
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Metal Coating http://www.aimt-group.com / me290991149.pdf Kiesow http://kiesow.info/ me290925553.PDF
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소재표면에 아연 또는 아연합금 도금의 갈바닉 전착을 위한 수성알캬리 시안화물이 설명되어 있으며, 이는 아연이온 소스 및 선택적으로 추가 금속이온 소스, 또한 수산화이...
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습윤시험방 · Wet Test Method [전기아연도금|전기 아연도금]의 투명 부동태화 처리피막의 [내식성시험]으로 채용되며, 상대습도 95 % 이상, 55±2 ℃ (16 시간), 30 ℃ (5시간...
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암모니아 알칼리 수조에서 얻은 무전해 니켈-주석-인 합금 도금의 특성에 대한 수조의 주석 및 인 함량의 영향에 대한 연구가 이루어졌다. 최대 1.0 % 주석과 3을 포함하는 ...