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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 eonard L. Diaddario 6건
니켈 도금욕에 있어서 광택 첨가제로 N-아릴 대체 아민과 그 염의 사용
Use of N-allyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths

등록 2008.08.23 ⋅ 43회 인용

출처 미국특허, 2004-0154928, 영어 5 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
니켈 또는 니켈 합금 증착의 전착을 위한 수성 산성 도금이다. 욕에는 니켈 이온과 일반 식을 2C = CHCH2 NR1 R2 또는 2C = CHCH2 N + R1 R2 R3]n Xn 식을 갖는 첨가제가 포함된다.
  • 헐셀캐소드의 2차전류 분포를 도전지와 마이크로 컴퓨터를 조합한 측정법으로 추축하고, 헐셀캐소드의 고전류 분포의 분극의 효과를 설명
  • 구리의 펄스전극위치는 황산구리염욕에서 체계적으로 조사되었다. 전류밀도 범위가 2.5~7.5 A/dm2 인 10~100 Hz 주파수에서 5~80 % 의 펄스 듀티사이클이 사용되었다. ...
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