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검색글 AIR 8건
NiFe 박막의 정상적인 전기화학 석출
Normal Electrochemical Deposition of NiFe Films

등록 2018.01.16 ⋅ 59회 인용

출처 AIR, 11권 2호 2017년, 영어 10 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.19
철니켈합금도금은 70 ℃ , pH 1.5~2.5 의 염화물 용액에서 갈바노스테틱 방식의 전착거동을 조사했다. 전해질에 수산화철이 존재하는 것이 비정상의 주요 원인 이었다. 수산화철의 생성은 붕산과 여과를 사용하여 제거되었다. 철이온 Fe3+ 의 형성은 염산에 의해 억제되었다. 염화물 전해질은 안정적이고 비정상 도금을 ...
  • 굴곡시험 ㆍ Bending TEST 재료의 강도와 파단을 시험하기 위한 방법이나 도금에서는 [밀착시험] 방법으로 이용한다. 굴곡시험, ZwickRoell 참고 [밀착시험]
  • 전류-전압 곡선중의 양극거동을 통계적으로 조사하여 대표적 곡선을 정히고, 이에 대한 결과를 고찰
  • 부식억제제는 상당한 효과로 인해 생산 공정에서 널리 사용된다. 이 장에서는 산성 용액, 중성에 가까운 용액, 알칼리 용액 및 오일 및 가스 시스템에서 전형적인 부식 억제...
  • 니켈 30% 절감을 목적으로 개발된 광택 페로 니켈 (Niron) 프로세스에 관하여, 사용 방법 액관리의 주의 사항, 도금 피막의 성질 내식성 등에 관하여 해설
  • 붕산 · Boric Acid (H3BO3) (올소 붕산) H3BO3 = g/mol 무색 판상의 결정 100 g 의 물에 20 ℃ 에서 5 g, 100 ℃ 에서는 40 g 정도 녹는다. 매우 약한 산으로 무취, 특유의 맛...