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설파민산니켈-염화물 (Nickel Sulfamate-chloride) 전기도금욕에서 전류밀도와 첨가제의 농도변화가 Ni 박막에 미치는 영향
Effects of the Changes of Current Density and Additive Concentration on Ni Thin Films in Ni Sulfamate-chloride Electrodeposition Baths

등록 2018.03.08 ⋅ 80회 인용

출처 한국표면공학회, 51권 1호 2018년, 한글 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.14
설파민산욕을 주성분으로 하고, 소량의 염화물을 첨가하여 제조한 전기도금 용액으로부터 전기도금 공정을 이용하여 제조된 니켈 Ni 박막의 특성들을 연구하였다. 이를 위하여, 도금용액 중의 전류밀도 및 첨가제의 농도를 변수로 사용하여, 이에 따른 음극전류효율(이하 전류효율), 잔류응력, 표면형상 및 ...

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