도금 첨가제 제조 원료약품 - 비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동

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비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동

Electrodeposition and electrochemical behaviour of arsenic film in aqueous solution

등록 : 2008.09.04 ⋅ 42회 인용

출처 : 표면기술, 40권 9호 1989년, 일본어 5 쪽

분류 : 연구

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Sisong JANG¹⁾ Hiroo NUMATA²⁾ Izumi OHNO³⁾ Shiro HARUYAMA⁴⁾

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카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10

반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 비소의 전착막을 만드는 실험

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