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비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동
Electrodeposition and electrochemical behaviour of arsenic film in aqueous solution

등록 2008.09.04 ⋅ 47회 인용

출처 표면기술, 40권 9호 1989년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10
반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 비소의 전착막을 만드는 실험
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    CVD · Chemical Vapor Deposite CVD 는 가스상의 Precursor 의 성분을 반응로에 장입시켜 고체의 기지에서 고체와 화학반응을 일어나게 하여 증착시키는 방법으로, (이때 불...
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  • 산성 구리도금 욕에 관한 것으로,보다 구체적으로 는 사용시 도금특성을 향상시키기 위해 개조된 욕조에 관한 것이다. 최근 몇년 동안, 표면 연마에 필요한 노동력과 경제성...