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비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동
Electrodeposition and electrochemical behaviour of arsenic film in aqueous solution
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10
반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 비소의 전착막을 만드는 실험
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전착 Zn-Cr 합금 도금은 철강을 부식으로부터 보호하는 데 높은 잠재력을 보여준다. 전기화학적 및 분석적 방법을 사용한 황산욕을 pH 4~12 범위에서 피막의 부식이 낮음을 ...
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전석막중에 공넉수소가 막구조와 물성에 다양한 영향을 미치는 것은 이전부터 문제가되고 있지만, 막 중의 수소의 존재 상태와 그 작용에 대해 구체적인 분석 이루어지게 된...
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코발트니켈합금도금의 도금조건과, 도금속도 및 피막조성의 관계를 밝히고, 임의의 코발트-니켈 조성의 도금피막을 만들기 위한 최적조건을 구하는 실험
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펄스도금 ^ Pulse Current Plating 일반도금에서는 직류전원을 이용하는 전통방식이 이용된다. 최근에는 직류와 펄스를 혼합한 도금, PPR도금ㆍPR도금ㆍ펄스도금 등의 비직...
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