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도금욕과 방법
Plating bath and process

등록 : 2008.09.23 ⋅ 127회 인용

출처 : 미국특허, 1962-3021267, 영어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.09
현재의 상업용 크롬도금 공정은 삼산화크롬, 소량의 촉매 (예 : 황산염, 불화물 등) 를 포함하는 크롬산 CrO3 용액의 전기분해를 기반으로 한다. 이러한 상업적 공정에서 허용되는 품질의 광택편을 생산하려면 도금중 전류밀도와 온도를 면밀히 제어해야한다.
  • 두꺼운 Fe-C 피막의 전착에 구연산염 기반 전해질을 사용하였다. 전착물은 결정립 크기가 20nm인 나노결정성 단상 구조로 구성되어 최대 660 HV 의 경도가 나타난다. 그러나...
  • 알데히드 ㆍ Aldehyde 알데히드는 디하이드 (de-hyde: H 를 제거 한것) 의 뜻으로 알코올 분자 -OH 에서 H를 제거하다는 뜻이다. 일반식은 R-CHO 로 표시하며 중성으로 주로...
  • 무전해니켈도금피막중의 Pb, 유황등의 공석물에 있어서, 무전해 Ni/Pd/Au 도금의 특성에 주는 영향에 관하여 소개
  • 코발트-몰리브덴 합금은 음극회전, 교반 및 닦기를 통합한 특수설계된 도금셀을 사용하여 피로인산염욕에서 고효율로 도금될수 있다. 이 조사는 교반, 닦음 또는 음극회전 ...
  • 양극 전해탈지 ^ Cathodic Electrolytic Degreasing 처리물을 양극으로 하여 전해중 제품에 산소 가스가 발생하며, 표면은 산화되어 [부동태] 막이 발생한다. 이 산화막을 ...