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황산철 도금액 중 Si 입자의 공석 특성
Co-deposition of Si partivles During electrodeposition of Fe in sulfate solution

등록 2008.10.30 ⋅ 56회 인용

출처 한국표면공학회지, 37권 6호 2004년, 한글 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.18
Si 입자가 포함된 황산염 Fe 도금액에서, 전류밀도, 도금액 내 Si 입자의 량, 도금액의 pH, 온도 및 도금액 내 FeSO4 농도가 Si 입자의 공석에 미치는 영향에 대하여 고찰
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