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21세기의 납과 카드뮴 PbCd 프리 무전해니켈 공정
Lead and Cadmium Free Electroless Nickel Process for The 21th Centry

등록 2020.05.05 ⋅ 25회 인용

출처 Sur/Fin Proceeding, 2006, 영어 15 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2021.01.24
무전해니켈도금을 위해 납 Pb 프리 및 납프리 니켈도금이 요구되는 사양으로 자동차, 전자 및 식품취급 장비와 같은 다양한 응용 분야에서 광범위한 무전해니켈 및 무전해 니켈/PTFE의 특성에 대하여 설명한다. 이러한 요구를 충족 시키도록 설계된 도금으로 전통적인 무전해니켈 도금은 인의 함량에 따라 크게 영향을 ...
  • 태양광 수신기의 흡광 표면은 흑색크롬으로 철강 또는 알루미늄 튜브의 표면에 우수한 흡광 특성을 나타낸다. 크롬 피막은 다공성이 높고 내부 응력이 높아 피막 균열을...
  • 헐셀은 음극이 양극에 비스듬하게 배열된 실험용 도금셀로, 광범위한 전류밀도의 도금은 단 한번의 전착만으로 테스트가 가능하다. 따라서이 셀은 도금상태 결정, 도금액의 ...
  • 미세 다공성 크롬도금 ^ Micro Porous Chromium Plating 미세한 구멍이 균일하게 분포된 크롬도금으로 내식향상을 목적으로 도금에 이용된다 [마이크로포러스크롬도금|마이...
  • 콜로이달 실리카를 성분계에서 제거하면서 절연피막층 표면품질이 우수한 성분계에 관하여 연구
  • 도금전압 · Plating Bath Voltage 일반도금에서는 분해전압 부근에서 도금하는 것이 좋다. 고속도 도금에서는 훨씬 높는 전압에서 도금하고 있으며, 이 경우 도금할 금속보...