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알루미늄의 화학연마 방법
method for Aluminium chemical polishing

등록 2020.05.18 ⋅ 87회 인용

출처 한국특허, 10-2006-123897, 한글 4 쪽

분류 특허

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자료요약
카테고리 : 연마/연삭 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.12
알루미늄의 화학연마에 관한 것으로, 인산 (H3PO4) 50~70 중량 %, 황산 (H2SO4) 20~40 중량 %, 질산 (HNO3) 5~15 중량 %, 그리세린 0.01~0.05 중량 %, 질산구리 (CuNO3) 0.005~1 중량 % 을 함유하는 화학연마제를 사용하여 100~140 ℃ 에서 1~5 분 동안 화학연마를 실시하되, 인산과 황산을 먼저 투입한 후 온도를 올리고...
  • 아연에 도금된 크로메이트 필름의 구조, 원자력 현미경은 크로메이트 필름의 3 차원에 대한 통찰력을 얻고 두꺼운 크로메이트 코팅에서 보이는 균열의 크기와 깊이를 연구하...
  • 나프탈렌 설폰산소다 ^ Naphthalene Sulfonic Acid CAS 5182-30-9 C10H8O9S3·3Na = 434.29 g/㏖ 백색 또는 황~갈색의 분말 용도 : 니켈도금 1차광택제 참고 [니켈도금광택제...
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  • 에너지분산 분광법 ^ Modified Energy Dispersion Spectroscopy (EDS) EDS, EDX 또는 XEDS 라고도 한다. 물질의 화학적 특성 분석ㆍ원소 분석을 가능하게 하는 분석 방법으...
  • 합금의 전착조건과 합금의 조직 결정구조와의 관계를 밝히기 위하여 황산니켈 및 황산아연의 산성혼합욕의 전농도범위에 맞는, 니켈-아연 합금의 전해석출의 시험과 욕조성 ...