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검색글 Tohru W ATANA 28건
도금피막의 결정학적구조
Crystallographics structure of plating films

등록 2008.08.08 ⋅ 63회 인용

출처 표면기술, 40권 11호 1989년, 일본어 7 페이지

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.08.10
도금막의 결정학적구조에 관하여 해설하였고, 지금까지의 전기화학과 다른점을 설명하였다.
  • 아연합금 전착은 기존의 전기 아연도금 마감재의 개선된 대체품으로 점점 더많이 수용되고 있다. 아연-코발트와 아연-철도 잘 정의된 시장 점유율을 가지고 있지만 아연-니...
  • 전기도금은 전류효율이 나빠 완전한 저전류 피복이 어려워 대안으로, 무전해 크롬도금을 하려고 합니다. 가능합니까?
  • 전기화학적 주파수변조(EFM)를 사용하여 2M HNO3 용액에서 티오펜(T) 및 일부 유도체[2- 티오펜 카복실산(TC) 및 2- 티에닐에탄올(TE)]가 존재할 때 구리의 부식 거동을 조...
  • 니켈-텅스텐 합금도금 ^ Nickel-Tungsten Alloy Plating 텅스텐은 경도가 높아 함유율이 높을수록 내식성ㆍ내마모성ㆍ경도가 증가한다. 욕조성은 구연산-암모니아-금속염 으...
  • 내식성이 개선된 크로메이트 변환 피막은 알칸설 폰산을 함유하는 크롬산염 변환피막 조성물을 사용하여 생산된다.