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기능수이용 세척기술의 제조방법
Critical Cleaning by Fuctional Water in the Semiconductor/FPD manufacturing Process

등록 2009.11.26 ⋅ 38회 인용

출처 표면기술, 60권 2호 2009년, 일어 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.23
오존수 제조방법과 이의 이용사례, 수소수에 의한 미립자제거, 환원성수(수소수)에 의한 표면변화부식제어방법을 기본으로 하여, 전자디바이스 제조공정용 기능수이용 세척기술에 관하여 해설
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  • 반토체실장의 일반적 공법으로 사용되는 무전해 UBM 형성 공정을 사용한 도금기술의 일부에 관하여 소개
  • 장시간 전해에 의한 첨가제 소모및 분해의 영향에 관하여 브라인드비아의 필링성 및 전기화학 측정으로 평가하였다. 도금욕의 조성과 작업조건 CuSO4 5H2O EDTA 4Na 2,3...
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  • 시안화물 이온이 없는 개선된 무전해금 Au 도금은 가용성 금(iii) 염과 에테르가 치환된 3차 아민보란의 알칼리 수용액을 포함한다. 촉매로 활성화된 표면을 가진 금속 및 ...