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표면 처리용 조성물, 표면 처리용 처리액, 표면 처리방법, 및 금속재를 갖는 제품
Surface finishing composition, treatment solution, method and metal substrate

등록 : 2008.09.23 ⋅ 42회 인용

출처 : 한국특허, 2004-0038635, 한글 17 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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분류 :
⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.03.23
철, 아연 및 아연 함유 도금, 알루미늄 및 알루미늄 합금, 마그네슘 및 마그네슘 합금 등의 금속재 표면에 형성되고, 미도장 상태에서나 도장 후에도 우수한 내식성을 제공할 수 있는 극미세 인산아연 화성 피막
  • 무전해 구리도금욕은 수용성 구리염, 착화제, 인산 또는 아인산염으의 환원제로 구성된다. 차아인산을 사용하는 기존의 산성욕에 비해 균일한 구리 막을 균일한 효율로 도금...
  • 집적회로의 배선폭이 1 μm 이하로 줄어들고, 처리속도가 빨라지고 전류밀도가 증가함에 따라 비저항이 크고 Electromigration 에 약한 알루미늄 중심의 배성 재료는 부적합...
  • 도금액내 스러지 발생원인과 대책을 수립하였으며 이를 토대로 도금액 청정 시스템을 설계 제작하여 현장에 설치하고 이의 운영에 필요한 제반 기술을 확보함으로서 도금용...
  • 중간 온도의 아연-망간 인산염 처리를 사용하고 3 단계 4 단계 직교시험 방식에 따라 40 Cr 강의 표면에 16가지 아연-망간 인산염처리 피막을 준비하였다. 황산구리 스...
  • 카드뮴 농도 26 mg/L, 폐 사카로 마이세스 세 레비지의 첨가량 16.25 g/L, 온도 18 ℃, pH 6.0 및 침지시간 4 시간의 조건에서 30 분 흡착후 카드뮴 제거율이 88 % 이상임을 ...