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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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알루미늄 양극산화에 있어서 전류분포의 모델링
Modeling of the current distribution in aluminum anodization

등록 : 2008.11.23 ⋅ 33회 인용

출처 : Applied Electrochemistry, 34권 2004년, 영어

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
지속적으로 교반되는 15 wt. % H2SO4 전해질에서 정전위적으로 형성된 다공성 양극 Al2O3 피막의 성장을 양극산화 전압 (14~18 V), 욕조 온도 (15~25 ℃) 및 양극산화 시간 (15~35 분)의 함수를 연구했다. 전류밀도에 따른 양극 표면 과전위의 변화는 실험적으로 측정되었다. 양극에서 접근하기 쉬운 부분의 필름두께는 양극...

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