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질산 에칭(Etching) 폐액으로부터 용매추출법에 의한 질산의 회수에 관한 연구
A study on the recovery on nitric acid from spent nitric etching solutions by solvent extraction
자료 :
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자료요약
카테고리 : 회수재생 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.29
질산계 PCB 에칭 폐액중에 존재하는 질산성분과 다량 함유되어 있는 철 Fe, 구리 Cu, 주석 Sn, 납 Pb 등의 유가금속 성분들을 효율적으로 분리 회수하기 위한 공정개발
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4성분 Ni-W-P-ZrO2 복합 피막을 무전해도금 하였다. 니켈 이온 착화제로 아미노아세트산을, 텅스텐산 공급원으로서 텅스텐산나트륨(VI)을 함유하는 욕을 사용하였다. 도금욕...
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경도가 높고 연성이 좋은 비정질 및 나노결정질 니켈-텅스텐 Ni-W 합금을 생산하기 위해 도금조를 개발했다. 이 발표는 약 2300 MPa 의 높은 인장강도를 갖고 우수한 연성을...
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환원제로서 차아인산염을 사용하는 PET 직물에 무전해구리 도금이 조사되었다. 니켈이온 농도와 온도가 각각 0.0030 M 및 65 ℃ 이상에서 연속적인 구리도금을 얻을수 있었다...
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광택팔라듐의 밀착성 전착을 생산하기 위한 시안화물이 없는 도금욕은 3-부틴 -2-올을 광택제로 사용한다.
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차세대 LSI 의 구리 내부배선과 미세화를 요구하는 고밀도 프린트 배선판의 구조에 있어서 광택 황산구리욕의 사용에 관한 과제와 이 과제를 크리어하는 에틸렌디아민 착체...