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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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AlCl3/LiAlH4/Ether 용매로 부터 알루미늄의 무전해 석출 1.석출 조건의 최적화
Electroless Deposition of Aluminium from AlCl3/LiAlH4/Ether solvents (1) Optimization of Deposition Conditions

등 록 2021.02.25 ⋅ 36회 인용

출 처 표면기술, 71권 8호 2020년, 일어 9 쪽

분 류 연구

자 료 있음(다운로드불가)

저 자

Takao GUNJI1) Takeru UI2) Tatsuya WATANABE3) Fuma ANDO4) Futoshi MATSUMOTO5)

기 타 AlCl3/LiAlH4/エーテル系溶媒からのアルミニウムの無電解めっき（1）～めっき条件の最適化～

자 료

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2021.11.28
지금까지 Al 전해도금에서 좋은 결과를 얻고 있다. Cu 소재을 기반으로하며 그 외, Ni 및 Fe 에서는 LiAlH4 에서 H2 발생시키는 촉매로 사용되고 있기 때문에, 부여된 촉매와 이 표면이 협연으로 Al 의 석출을 촉진하는 것이 아닐까 생각 한다. 또한 참고 문헌에서 사용되는 유리 기판과 촉매로 예상되는 산화 티타늄 (TiO2)...

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