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MEMS 용 니켈-텅스텐 NiW 박막의 특성과 전착
Electrodeposition and properties of NiW films for MEMS application

등록 : 2021.11.12 ⋅ 9회 인용

출처 : Electrochimica Acta, 50권 2005년, 영어 8 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.01.30
IC 통전을 위한 임시 접점으로 MEMS 에 잠재적으로 적용될 수 있는 이동 가능한 니켈-텅스텐 NiW 미세 구조의 전기도금 및 특성에 대한 기본 조사를 보고하였다. NiW 층은 직접 및 펄스전류 도금 방식을 사용하여 작동온도 50ºC 및 pH 약 3.0 에, 안정화된 구연산 텅스텐 전착물을 추가하여 황산니켈 도금액 (MICROFABNI...

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