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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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도금분야의 여과(2) - 순환여과와 그 응용-
Filteration for plating process (II) - Continous circulating filtration and filter applications

등록 2008.09.10 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 52권 11호 2001년, 일본어 4 페이지

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자료요약
카테고리 : 설비관련 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.27
여과기는 도금공정 용액으로부터 고형 미립자를 제거하여, 도금의 품질안정과 향상, 나아가 용액의 노화방지를 주목적으로 한다.
  • 톨루엔설폰산 ^ p-Toluensulfonic Acid ^ PTSAㆍTSAㆍTosic Acid C7H8O3SH2O = 172.20 g/㏖ CAS 6192-53-5 (104-15-4 일수염) 무색 또는 백색 고체 67 g / 물 100 ㎖ Na 염...
  • IZE
    IZE [Lugalvan] IZE는 독일 BASF 사의 [이미다졸|이미다졸 (Imidazole)] 과 [에피클로로히드린|에피클로로히드린 (Epichlorohydrine)] 의 축합 생성물로 전기도금의 광택제 ...
  • 도금폐수중의 시안화구리 및 시안화소다가 6가크롬을 3가크롬으로 환원하는 작용이 있는 것으로 확인되어 그 반응형식의 확인과, 이를 이용한 상호 처리방법에 관하여 검토
  • 조성이 다른 2종류의 사용후 폐액을 시료로하여 용매압출 실험을 하였고, LIX84I 로 니켈을 역압출하여 농액의 황산니켈 수용액을 만드는 방법을 설명 [使用済み無電解ニッ...
  • 니켈침지 및 무전해니켈 도금공정에 의해 전처리된 알루미늄에 대한 무전해니켈 도금의 초기동작은 시간함수 (EOCP-t) 로서 개방회로 전위 (OCP) 를 측정하여 연구하였다. ...