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착화 화학 및 무전해 구리 도금 공정
Complex Chemistry & the Electroless Copper Plating Process

등록 2022.03.04 ⋅ 54회 인용

출처 Plating & Surface Finish, Feb 2004, 영어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.03.04
에틸렌디아민 테트라아세트산 (EDTA) 및 트리에탄올아민 (TEA) 이 착화제로서 팔라듐 및 구리 전극에 대한 제2구리 이온의 전기화학적 환원 및 포름알데히드 산화에 미치는 영향이 조사하였다. 강염기에서 제2구리 이온의 환원 거동은 착화의 형성 상수 때문에 착화제에 따라 달라지며, 이는 혼합 전위와 무전해 구리의 도금...
  • 인산염 피막 ㆍ Phosphate Film 인산염처리욕중 수용성은 제1인산염이며, 제2, 제3 인산염은 불용성이다. 2가 금속인 제1인산염이 철강과 접촉시 불용성 인산염피막이 만들...
  • 니켈함유 소재에 금 Au 도금을 형성하는데 유용한 전해질 조성물이 개시된다. 또한 니켈함유 소재에 금층을 도금하는 방법이 개시된다.
  • • Excellent for barrel plating with high temperature stability • Can be operated with air or cathode movement • Stable over a wide metal ion concentration and te...
  • 아연의 고내식성을 요구함에 따라 개발된 녹색크로메이트피막의 특징과 종래 크로메이트와의 다른점, 처리조건과 내식성에 관하여 설명
  • uDiamond Enhancement Carbodeon’s uDiamond® 의 특성 • 내마모성 : + 200% • 부식성능의 저하가 없다 • 마찰성는 유지 • 경도의 증가(약간) • 도금조에 직접첨가하여 초음...