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전기화학 임피던스 분광법 (EIS) 의 기본원리
NA

등록 2008.08.09 ⋅ 7315회 인용

출처 YI-AN-0504-0013EN, 2권 April 2005년, 한글 2 쪽

분류 교재

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자료요약
카테고리 : 교재참고자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.22
전기화학 임피던스 분광법은 주파수가 다른 미소한 교류신호를 셀에 부여하여 임피던스를 계측하는 방법이다. 이는 다양한 기술과 출력형태가 가능하고, 부식, 반도체, 연료전지, 전기도금 그리고 전기-유기합성 연구에 사용되고 있다. 첨부자료참조 : sc260720_001.pdf
  • PBT 수지의 도금기술에 관하여, 도금 그레이드의 사출성형, 도금 전처리, 도금 밀착기구, 도금제품의 성능에 관하여 소개하고, 폴리에스텔의 도금기술에 관하여 설명하였다.
  • 본질적으로 원주형 그레인이 없는 실질적으로 균일한 비배향 그레인 구조를 갖는 어닐링 가능한 전착구리 호일에 관한 것으로, 상기 호일은 177 ℃ 에서 15분 동안 어닐링된...
  • 도금불량 대책 ^ Plating Bath Trouble shooting 아연도금 [산성아연불량대책|산성 아연도금 불량대책] [시안화아연불량대책|시안화 아연도금 불량대책] [알칼리아연불랑대...
  • 도금된 피막의 결정배향에 대한 소재의 초음파처리 및 진동의 영향과 전기화학적 변수를 조사했다.
  • 무전해도금 기술은 SnCl2 및 NiCl2 의 산성 무전해도금조에 특수 착화제인 티오요소와 환원제인 차아인산소다를첨가하여 Sn 함량이 높은 구리소재에 Sn-Ni 합금을 도금하는...