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전 크롬의 새로운 간이 측정법
NA

등록 2008.08.09 ⋅ 3388회 인용

출처 Reseat, na, 한글 6 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 교재참고자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.02.16
금속 표면 처리 공장 폐수를 대상으로 ICP-AES 유도 결합 프라즈마 발광 분석 장치, 세이코 인스트루멘츠(주) 제와 종래의 간이법에 의한 전크롬의 측정치를 비교하였던 바, ICP-AES 와 종래 간이법의 측정치 사이에는 직선 관계가 있지만, ICP-AES 에 비해 간이법의 측정치가 낮았다. 이는 Cr(iii) 의 산화가 불충분하였다...
  • 무전해구리도금 착화제 비교 Compare to Chelating Agent in Electroless Copper [주석산]염 착화욕 안정제가 없으면 쉽게 분해된다. 작업 온도가 낮아 석출 속도가 느리다....
  • 알콕실화 디메르캅탄 에테르를 첨가제로 사용하는 구리 전기도금 공정. 첨가제는 전극을 단락시키는 수지상 형성을 방지한다. 또한 전류감소 및 비용절감을 가능하게 하는 ...
  • 영구적 또는 왁스 등과 같은 일시적으로 만든 모형표면에 전도성 물질 (흑연, 실버래카 등)을 도포시키고, 전기도금의 원리를 이용하여 원하는 금속을 석출시켜 동일한 복제...
  • 좁은 극간 거리를 가진 충진상식 전해장치로 희박한 금속이온용액에서의 석출 메카니즘과 도금 폐수의 응용예를 소개
  • 합금도금욕으니 불안정하여 액의 관리가 어럽다. 특히 황동도금은 색조의 변화쉽고 색의 변색성이 크로 흑색반점의 발생이 쉬워 현장작업이 까다롭다