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복합도금 - 공석 메카니즘과 최신응용
Composite plating - Codeposition mechanism and new application

등록 2008.09.10 ⋅ 66회 인용

출처 표면기술, 57권 7호 2006년, 일어 5 쪽

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저자

기타

複合めっき-共析のメカニズムと最新応用

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.21
복합도금의 공석기구에 관한 연구의 선구자인 Guglielmi 의 전해에 따른 복합도금게 관하여 제안된 메카니즘과 나노입자공석에 관한 몇가지 화제를 설명
  • 음극전류 효율 (CE), 도금품질, 결정학적 방향, 표면형태 및 양극화 거동에 대한 티오우레아의 영향은 60 ℃ 에서 2 시간 동안 산성황산염 용액에서 니켈전착중 조사 하였다....
  • 아연-니켈 Zn-Ni 부식 메커니즘은 적어도 90년대 이후로 조사 대상이 되어 왔으며 여러 저자의 노력에도 불구하고 Zn/Ni 부식 메커니즘의 일부측면은 여전히 논쟁 중이다. ...
  • 전도염으로서 염화칼륨 및 완충액으로서 붕산을 함유하는 산성 염화아연 전해질로부터 도금된 아연을 위한 광택시스템에 관한 것이다. 시스템의 활성 광택제는 방향족 알데...
  • 엔지니어링 플라스틱 ^ Engineering Plastics 엔플라(EnPla) Engineering Plastic(EP) 는 1956년 금속에 도전하는 플라스틱으로 미국 DuPont 사가 폴리아세탈의 단 중합체인...
  • 니켈도금액에서, 와트욕을 사용하여, 여러종류의 미량 첨가제를 첨가하여 도금피막을 만들어, 그 결정구조의 해석, SEM 관찰, 경도측정 및 균일전착성을 측정하고, ...