로그인

검색

검색글 LI Li 19건
경질 크롬 도금욕의 정화 - 조건과 요구
Purification of Hard Chromium Plating Baths—Options & Challenges

등록 2022.10.27 ⋅ 73회 인용

출처 Plating & Surface Finishing, Apr 2002, 영어 4 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.10.27
경질 크롬 도금욕을 처리하는 데 사용되는 두 가지 주요 전기화학 공정을 비교었다. 실험실 규모에서 얻은 결과로 제거율은 PCM 셀에서 약간 더 나은 반면 에너지 (시간전위)는 FCMP에서 더 낮은 것을 나타냈다. PCM 공정의 주요 단점은 음극액 pH의 증가와 그에 따른 침전으로 인한 슬러지 형성이다. 반면에 FCMP 셀에서 슬...
  • 전기화학은 전기적 현상과 화학적 현상사이의 관계를 다루는 학문분야로, 전해질 용액에 대한 현상과 이 전해질 용액속의 전극에서 발생하는 현상에 대한 연구 및 부식에 대...
  • 염화제일석과 염화팔라듐과 친수성제를 적당히 용해한 표면처리제로 도금소재에 도포후 화학도금하는 방법
  • 주석산욕에서 얻은 텅스텐-코발트 W-Co 도금의 결정구조, 현미경구조, W 함량, 경도 및 전류효율에 대한 욕조성 및 전류밀도의 영향을 연구했다. W-Co 도금의 W 함량, 현미...
  • 프라스틱 재료의 무전해 도금액의 조성에 관한 것으로 황산구리 혹은 염화구리를 구리염으로 사용하고 구리이온의 착화제로서 테트라덴테이트 질소 리간드 등을 사용
  • PCB 제조공정중에 구리회로 부분을 산화로 부터 보호하는 방법에 관한것 이다. 기술의 핵심은 구리회로를 유기납땜성 보호제 (Organic Solderability Preservative, OSP) 로...