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초임계 유체를 이용한 선단 반도체 세척기술
Leading-edge semiconductor wafer cleaning technlogy using supereritical Fluids

등록 2012.07.06 ⋅ 63회 인용

출처 표면기술, 61권 8호 2010년, 일어 5 쪽

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기타

超臨界流体を用いた先端半導体洗浄技術

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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.18
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