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SiC 의 직접 무전해 도금
Direct Electroelss Plating on Silicon Carbide

등록 : 2023.03.03 ⋅ 559회 인용

출처 : MES 2016, 9호 2016년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.03.03
금 나노입자를 촉매로 사용하여 단결정 4H-실리콘 카바이드(SiC) 웨이퍼에 직접 무전해 도금하는 새로운 방법을 개발하였다. SiC 상의 금 나노입자는 Hg-Xe 쇼트 아크 램프를 사용하여 UV 조명 아래에서 불화수소산 또는 수산화칼륨을 포함하는 [테트라클로로금](III) 산 용액에 침지하여 생성뎐다. 형성된 Ni-P 막의 접착력...
  • 반갑습니다. 이런 유용한 싸이트에 질문을 하게 되어 영광입니다. 다름이 아니라... 이번에 저희가 개발한 부품에 동도금을 약 0.25mm 정도 올려야되는데 베이스가 되는부분...
  • Hex-A-Gone은 미국 PAVCO사가 개발한 장식용 3가 크롬도금 방법으로, 6가 크롬이 가지고 있는 외관을 그대로 표출하며, 도금액중의 금속불순물의 허용도 높아 관리가 쉽습니...
  • 아연 전석과정에 있어서 첨가제의 영향을 상세히 설명하기 위하여, 황산아연욕에 3종류의 폴리마계 및 그 모노마계 합성첨가제 또는 젤라틴의 구성 성분인 8종류의 아민산 ...
  • 크롬도금은 내식성 및 내마모성이 우수하므로, 장식용으로도 산업용으로도 널리 이용되고 있다. 현재 일반적으로 무수크롬산을 주성분으로 하는 6가크롬욕이 사용되고 있지...
  • 시안화구리 스트라이크 도금 ^ Cyanide Copper Strike Plating Bath 정상적인 작업전류보다 높게 설정된 전류밀도를 이용하여 단시간 (30초~1분) 에 도금하여 소재와의 밀착...