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Modern Electroplating (1) - 기본 고려 사항
Fundamentals Considerations
자료 :
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- 분류 : 도금기본 ⋅ 모던일럭트로플레이팅 ⋅
자료요약
카테고리 : 일반교재 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.14
이 장은 세부분으로 나누었다. 파트 A는 전기 화학적 측면을, 파트 B는 물리적 측면을, 파트 C는 재료과학을 다루었다. 기본사항에 대한 프레젠테이션을 위해 이 책에서 다루는 전기화학 도금 공정만을 이해하기 위한 기초를 제공하는 것이다.
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산소 O 산화 및 수소 H 환원 처리에 의한 비정질 니켈-텅스텐-인 Ni-W-P 합금의 표면조성 변화는 XPS, UPS 및 ISS 에 의해 연구되었다. 비정질 니켈-인 Ni-P 합금에 텅스텐...
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도금액의 pH, 전류밀도, 온도, 첨가제등의 도금조건에 따른 물성자료를 확보하고 나아가 물성제어를 위한 기초 자료로 니켈전주의 표준용액으로 사용되는 설파민산욕에...
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산성욕에서 아연의 전석에 관하여 펄스조건의 전류밀도, 분극특성, 석출형태 및 결정 배향성에 주는 영향에 관하여 검토
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징케이트 공정은 알루미늄 소재 대부분의 상업용 전기도금에 사용된다. 이 과정에서 깨끗한 알루미늄 부품을 아연염이 포함된 강 알칼리성 용액에 침지한다. 산화물이 ...
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비정질 니켈인전기도금의 레벨링은 클래스 II 광택제와 화학식 R-COOH 를 갖는 유기산이 결합된 상승작용에 의해 달성 된다. 여기서 R은 수소, 1~5 개의 탄소원자를 갖...