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TiN 박막 위에 팔라듐을 촉매 활성제로 이용한 구리 무전해 도금에 관한 연구
Electroless Copper Deposition on Titanium Nitride Substrate using Palladium As a Catalytic Activator

등록 : 2009.08.13 ⋅ 46회 인용

출처 : Web, na, 한글 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

오윤진1) 박종호2) 안경희3) 조성민4) 정찬화5)

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자료 :

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자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.06
구리를 seed layer로 증착하기 위하여 그 동안 문제되어왔던 표면의 자발적인 촉매화를 유발시키기 위하여 팔라듐을 catalytic activator로 사용하였다. 또한 팔라듐 입자을 생성시키는 전단계인 세정공정이 어떠한 영향을 주고 결과적으로 구리 증착에 어떠한 영향을 주는가에 대하여 연구하였다.
  • 크롬 대체처리 피막으로 규산염과 기타 화합물의 조합을 검토하여, 망간(ii)를 병용한 화성피막이 내식성이 우수함을 확인한 보고서
  • 고주파 열처리 철강재료 소재표면을 고주파 유도전류에 따라 급열-급냉하여 소성하는 방법으로 특히 중탄소강ㆍ합금강ㆍ주조제품 등에 이용된다. 경화층의 두께는 0.4~5 ㎜...
  • 도금막의 내부응력의 영향에 관한 연구로, 니켈 Ni 도금막 형성에 관하여 장식성, 내부식성, 내마모성의 특성에 영향을 주는 수소발생과 Ni 도금막 내부응력 형성의 관계를 ...
  • MPS-100 니켈도금 프로세스는 미세구멍이 계속하여 6가 크롬 침전물로 도금되게 하는데 사용된다 . 틴 및 비전도성 입자를 함유하고 있는 니켈 스트라이크층 (0.05 - 0.1 mi...
  • 열산화방법을 사용하여 30분간의 열처리로 370~950 도 까지 온도 범위에서 각 조건에서의 발색을 확인하고, 확산현상으로 알려진 산화막의 두게를 정량화 하고 이대의 색을 ...