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Modern Electroplating (25) 감시와 운전
Monitoring and Cotrol

등록 2012.07.23 ⋅ 101회 인용

출처 Modern Electroplating, Fifth Edition 2010, 영어 28 쪽

분류 교재

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.11
공정 모니터링, 용액 성분 농도 모니터링 및 보충, 제품 모니터링의 세 가지 섹션이 있다. 첫 번째 섹션에서는 도금 및 관련 공정을 모니터링하기 위한 센서 및 기술, 그리고 이를 사용하여 도금 장비의 자동화 수준을 높이는 방법에 중점을 두었다. 도금 공정에 사용되는 화학 물질의 농도 모니터링, 콘트롤 및 제어가 매우...
  • 메탄설폰산구리 ^ Copper Methansulfonate CAS 54253-62-2 CH4O3S·½Cu = 253.74 g/㏖ 〔C2H6CuO6S2〕 500 g/l 청색 액상으로 공급 메탄설폰산 구리도금 ([릴투릴]) 에 사용 ...
  • 아연 전기도금은 DL- 알라닌과 글루타르 알데하이드 사이에 형성된 결합생성물의 존재하에 실험하였다. 욕성분은 헐셀실험을 통해 최적화 하였다. pH, 온도, 전류밀도와 같...
  • 귀금속도금의 양극으로 이용되는 백금-탄탈룸양극의 내식성을 중심으로 그 성질 사용방법에 관하여 해설
  • 서스캅 · SUSCOP SUSCOP 은 [스테인리스강] 판에 구리도금한 제품으로 스텐리스의 내구성과 구리의 온화함을 더한 복합재료로서 건축물의 외장 마감 등에 이용된다. 특징 내...
  • 품질우선의 니켈도금을 방해하는 오염물질은 제거하는 것이 적합하여, 과거에는 분말 활성탄의 프리코트등에 효과적으로 사용 되었지만 비효율적 이며 불편하여, 이제는 전...