로그인

검색

검색글 11006건
무전해 니켈-인 석출에 있어서 인의 분포
Distribution of Phosphorus in Electroless Nickel-phosphorus Deposits

등록 : 2023.12.21 ⋅ 34회 인용

출처 : electrochemistry, 70권 7호 2002년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.22
초기 단계 도금 조건의 정상 상태 모두에서 전기 니켈 피막의 인 분포와 함량을 설명하였다. EPMA GDOES 및 AES 측정 결과에서 초기 단계에서 석출된 피막의 인 함량이 정상 작업 상태 석출보다 더 높은 값을 나타내는 것으로 나타냈다. 피막 내 인 함량이 가장 높은 것은 시험욕의 복합화제 중 구연산 욕이었다. AES 스...
  • 니아신 ㆍ Nicotinic acid 비타민 B₃로의 수용성의 니코틴산이라고도 한다. C6H5NO2 = 123.11 g/mol Cas 94-44-0 [알칼리아연도금]용 축합생성물을 만드는 원료로 사용된다....
  • 안녕하십니까 문의드릴께 있어서 이렇게 글을 올립니다 우레탄 폼에 은도금이나 금도금을 하려고 하는데 어떠한 방법 있는지 궁금하여 문의 드려봅니다
  • 수질, 대기 환경 기준이 더욱 엄격 해지고 있으며, 표면 처리에서도 6가크롬 프리화 등의 움직임이 있다. 크롬도금은 도금시 발생하는 6가크롬 미스트가 특히 문제이다. 이...
  • 침탄질화 · carburization 침탄과 동시에 [질화처리]를 하는 방법으로, 처리온도는 700~900 ℃. 처리후 소성한다. 적용소재는 소재는 침탄과 동일하며, 탄소강에도 적용가능...
  • 테프론 니켈도금에 관심이 있어 질문드립니다. 무전해 니켈에 사용되는 테프론에는 어떤 종류의 것을 사용해야 하는지와 요즘 PTFE 시세에 대해서 문의 드립니다,