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검색글 Yasuo UCHIKOSHIKI 5건
크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위및 전류분포의 측정
Measurement of Potential and current deistributions in HUll Cel test of chromium plating bath

등록 2010.01.07 ⋅ 51회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.07
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 측정하여 표면형태와의 관계에 관하여 조사
  • 초경합금에 전기도금된 니켈도금은 경질금속 소재에 다이아몬드 도금전에 중간층을 제공하기 위한 잠재적인 전처리 기술이다. 전기도금된 니켈 피막은 예를 들어 적절한 두...
  • 구리도금 알루미늄 및 알루미늄 합금 와이어 또는 스트립의 방법은 와이어가 도금장치를 통해 빠르고 연속적으로 이동하는 동안 밀착성 및 연성도금을 적용한다. 개선된 화...
  • 알루미늄 또는 알루미늄 카본블랙 함유 에나멜 페이스트를 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 (ABS) 플라스틱에 코팅하여 후속 구리도금을위한 알루미늄 시드 표면을 만들어, ...
  • 광택아연 도금은 지방족 디아민을 지방족 디하이리드와 축합하여 얻은 하나 이상의 선형 폴리아민을 포함하는 시안화물이 없는 알칼리 아연도금욕에서 얻는다. 욕조에 하나 ...
  • 전해도금의 10배에 달하는 무전해도금의 생산단가를 생각할때, 액의 재생은 환경보전으로 경제적 의의가 크크로, 급속히 확대되는 무전해 Ni-P 도금욕의 신개발 재생기술을 ...