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전착아연의 크롬 프리 패시베이션막의 형성 공정 연구
Investigation of Formation Process of the Chrome-free Passivation Film of Electrodeposited Zinc

등록 2025.05.01 ⋅ 28회 인용

출처 Aeronautics, 20권 2007년, 영어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크로메이트 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.01
티타늄조에서 전착된 아연의 무크롬 부동태화 처리를 크롬산염 부동태화 처리로 대체하는 타당성을 조사하였다. 크롬이 없는 부동태화 필름의 형성 메커니즘을 추가로 분석하였다. 필름 형성 과정에서 샘플 표면의 전극 전위를 기록하였다. 양극 아연 용해와 음극 수소 이온 환원 공정으로 인한 국소 pH 값 증가로 인해 ...
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  • 무전해 (EL) Ni-B-Si3N4 복합도금의 석출과 그 특성에 대해 설명 한다. 수소발생은 EL Ni-B 매트릭스에서 SiN4 입자의 통합수준을 2 wt % 로 제한 하였다. Si3N4 입자의 혼...
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  • As, Cd 또는 Pb 등의 유해 중금속에 오염된 토양등으로 부터 이러한 유해 중금속을 효율적으로 흡착, 제거할수 있는 중금속제거제를 제공하는 것을 과제로 한다. 또한 이러...
  • 다이나믹 콘트롤 셀 (HCHC) ^ Dynamic Control Cell HCHC 실험조는 "I. Kadija" 가 1991 년 경에 개발한 회전 실린더로 물질조달 상태가 일반적인 시험조 이다. a) Cathode,...