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전해/무전해 석출법을 이용한 미소기능 구조체의 형성
Fabrication of fuctional microstructure by electrochemical and electroless deposition process

등록 2008.08.01 ⋅ 48회 인용

출처 표면기술, 55권 4호 2004년, 일어 5 쪽

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카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
스루마스크형 프로세스에 의한 도금 기능미소구조체 형성에 관하여 설명하고, 도금 프로세스에 있어서 미세구조 형성의 특징으로 마스크리스형 프로세스도 중요 하므로, 상세한 개요를 설명 [電解・無電解析出法を用いた微小機能構造体の形成]
  • 은 도금욕 · Silver Plating Bath [은도금] 스트라이크용 1~2 g/l 시안화은 0.8~1.6 g/l (금속은) 80~150 g/l 시안화칼륨 80~150 g/l (유리시안화칼륨) 작업온도 상온 음극...
  • 폴리카보네이트는 충격강도가 좋으나, 도금 처리공정의 간소화를 목적으로 폴리머 아로이 타입의 도금 그레이드가 개발되었고, 도금의 원리, 처방, 특징, 용용사례에 관하여...
  • 음극을 분할하여 각 분할구역에 내부저항이 거이 같은 전류계를 연결하여 각 부위의 전류를 직접 측정하는 간단한 방법을 이용하여, 균일전착을 위한 방안을 모색하는 연구
  • 5-설포살리실산을 지지 전해질로 사용하고 DMG 를 착화제로 사용하여 DME 에서 고농도 금 Au 외에 코발트를 측정할수 있다.
  • 시안화동 도금욕의 농도가 낮아, 시안화동과 시안화소다를 첨가 하게 되는경우, 첨가후 도금 속도가 늦게되는 이유가 무엇 입니까?