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무전해도금을 이용한 IC 미세접합 기술
Micro-connection for IC bonding using electroless plating

등록 2008.08.02 ⋅ 41회 인용

출처 표면기술, 54권 2호 2003년, 일어 4 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.22
고성능 SIP를 살현하기위하여 필요한 기술로서, 특히 확립이 급무한 IC 미세접합에 관한 기술보고
  • 공업적으로 많이 이용되는 와트욕에 Ni-SiC 전석 복합도금 피막을 만들어, 이 피막의 경도 및 내응착 마모성에 있어서 전류밀도, SiC 입경, 도금욕중의 SiC 입자 농도등의 ...
  • 차아인산소다 ^ Sodium Hypophosphite 포스핀산염소다로 Na(H2PO2) 를 차아인산소다라고 부른다. 주로 [무전해니켈도금|무전해 니켈도금]의 환원제로 사용된다. CAS 10039-5...
  • 첨가제의 예비흡착 및 첨가제를 함유하지 않은 산성황산구리도금불용성양극을 사용한 구리전석에 의한 ULSI 구리미세배선을 형성하는 방법을 검토
  • PFS
    PFS (6:2-FTS) 6:2-fluorotelomersulfonic acid CAS 27619-97-2 C8H5F13O3S = 428.16 g·mol 백색~약한 갈색의 분말 물에 용해 658 g/l (20 °C) 용해점 87 ℃ 과불화 및 다불...
  • 폐수의 슬러지 발생량 예상계수 금속화합물 금속함유율(%) 슬러지 계수 동 염화제일동 황산동 피로린산동 피로린산가리 CuCN CuSO4 5H2O Cu2P2O7 3H2O K4P2O7 5H2O 70.9 25....