로그인

검색

검색글 10998건
실리콘 웨이퍼상의 무전해 도금의 밀착성
The adhesion of electroless plating on silicon wafer

등록 : 2008.08.09 ⋅ 58회 인용

출처 : 금속표면기술, 37권 9호 1986년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.30
불산 질산 삭산의 에칭액에 과산화수소를 첨가함에 따라, 실리콘 웨이퍼가 에칭된다. 에칭 전처리로 수산화칼륨 처리를 하면 에칭 피트생성속도가 촉진되고, 불산 질산 삭산 과산화수소 에칭의 처리시간을 단축하게 된다
  • 자기기록 매체의 언더코트로서 알루미늄 소재상의 무전해 니켈-인 Ni-P 도금을 채용하는 경우의 도금욕 조성 및 액관리, P 함유량과 내열자기특성의 관계 및 피막의 특성에 ...
  • 황화물을 포함하는 수용액에 용해된 3가크롬 이온을 포함하는 전해질욕 및 이러한 욕을 사용하는 방법. 도금욕에는 차아인산염 또는 글리신과 같은 약한 착화제가 포함될수...
  • 모넬소재의 은도금 박리 ^ Silver Plating Stripping on Monel 모넬은 니켈-구리의 합금 (니켈 70 % 구리 30 %) 전해박리 30 g/l 질산나트륨 진한 황산 온도 실온~50 ℃ 양극...
  • 팔라듐은 원자번호 46, 원자량 106.42, 1803년 영국의 Wollaston 이 발견하였고, 팔라듐의 명칭은 발견자 Pallas에서 유레되었다.