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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 Setsuo ANDO 1건

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티오요소 -하이드로키논 2원 환원제계를 이용한 극도로 안정된 비시안 무전해금 Au 도금욕
A very stable non-cyanide electroless gold plating bath using thiourea and hydroquinone as a cooperating double reductant system

등록 2008.08.16 ⋅ 60회 인용

출처 표면기술, 49권 12호 1998년, 일어 7 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Takashi INOUE1) Setsuo ANDO2) Jiro USHIO3) Hiroaki OKUDAIRA4) Hiroko TAKEHARA ⁵) Toshihiko OTA ⁶) Hiroshi YAMAMOTO ⁷) Hitoshi YOKONO ⁸)

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2023.07.23
시안화물 없이 거의 중성에 가까운 저온 욕 조건과 우수한 공정 안정성을 달성하는 자가촉매 무전해 금 도금욕을 보고하였다. 금도금욕은 공급원으로 Au(I) 와 2개의 환원제의 티오황산염-아황산염 혼합 착화물 티오우레아 thiourea 와 하이드로퀴논 hydroquinone 을 포함하였다. thiourea 는 금 착체의 1차 환원제 역할을 ...

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